光学分野の多様な冷却ならびに加熱用途に適したシリーズです。
主な用途は、産業機器に加えて、光学機器などがあります。標準厚み公差は、±0.025mmの精度です。
角基板ベース / センターホール付ペルチェ
20083/023/030B 3 3.3 83 5.1 15.1 15.1 5 2.9
20063/023/030B 3 3.3 83 5.1 15.1 15.1 6.7 2.9
20043/023/030B 3 3.3 83 5.1 18 18 8 2.9
20083/023/100B 4 3.3 83 6.8 15.1 15.1 5 2.9
20063/023/100B 4 3.3 83 6.8 15.1 15.1 6.7 2.9
20043/023/110B 4 3.3 83 6.8 18 18 8 2.9
20045/125/150B 6 17.8 83 56 39.7 39.7 4.7 3.55
丸基板ベース / センターホール付ペルチェ
20065/014/060B 6 2 83 6.3 26 14 3.1
B: | 表面セラミックス基板高精度品、モジュール厚み公差±0.025mm | C: | 吸熱側表面メタライズ基板、モジュール厚み公差±0.25mm |
H: | 放熱側表面メタライズ基板、モジュール厚み公差±0.25mm | M: | 吸熱側・放熱側表面メタライズ基板、モジュール厚み公差±0.25mm |
※C、HおよびMタイプは厚み寸法が異なります。 |
形状寸法