OPTディバイス、半導体素子等の温特テスト用卓上恒温槽の製作

　光学ディバイス、半導体素子、基板モジュール、MEMS製品等の温度特性DATA採取を目的とした卓上型からマイクロ型までの高精度恒温槽を被測定物の形状、特徴等考慮した完全オーダーメイドによる企画設計開発システムを提供。又恒温システムに用いられる露結防止真空システムチャンバー、窒素循環装置等、計測時に必要と成る観察用顕微鏡、DATA採取ロガ、プローブ、XYZステージ、光解析分光システム等を付与し、これらシステム全体のPC制御をも可能と致します。

　卓上恒温槽はYHTC.貴社製品の独自の形状に見合った卓上恒温槽から超小型恒温槽（チャンバー空間）を提案致します。

　本卓上恒温槽のシステム構成は、恒温チラー、温度コントローラと恒温槽から構成されます。恒温槽に付きましては、お客様がテスト対象とされるディバイスに見合ったオリジナル設計をさせて頂きます。つまり恒温槽部に付きましては、標準品が御座いません全てお客様と打ち合わせながら、製作を進めさせて戴きます。

　恒温槽は、恒温プレート部とペルチェ及びヒートシンクから構成され、ヒートシンク部には、恒温水が循環し、ペルチェからの放熱能力を補助する役割を担っている。

　卓上恒温槽システムブロック図

　光学ディバイス製造工程におけるトラッキング特性、研究開発作業での物性の 温度特性評価用に大変小型な卓上型の恒温槽です。恒温槽外部から光を入力し恒温槽内被測定物を 通過した光を恒温槽外部で受光可能な二重透過窓を装備。
槽内の温度は、－50℃～＋200℃まで対応いたします。温度制御精度1/100℃までの精度及び分解能を 確保することができます。
　本システム構築要素には、ペルチェ・ヒーター・温度センサー(サーミスター・白金)・チラー 等を用い、これらを弊社製温度コントロールシステムで制御しています。
　被測定物に合わせ恒温槽内の設計を承りますので、お気軽に弊社技術にご相談下さい。

　卓上恒温槽実績例（出荷実績122件）

　自然放熱方式恒温プレート

恒温プレート部サンプル例

　薄いカラス、ウエハー等をバキューム吸着し、温度コントロールを実現。

超小型恒温槽治具

　外形寸法60×50×60ｍｍに、空冷ファン、ヒートシンク、ペルチェ、サーミスター、及び窒素ガス封入カバーを装備し、±1/100℃を制御。

①窒素掃引口付きＬＤマウンター治具　　　　　　②恒温ドライシステム

③光学フィルター温特検査治具。　　　　　　　　　④シリコン基板吸着恒温プレート

マイクロ恒温チャンバー（φ１0×12）

スタンドタイプ恒温槽　温度コントロール帯域（０℃～200℃）

筺体外寸：H107×W72×D92(mm)    　恒温槽内容量寸法：54×54×10(ｍｍ)

スタンドタイプミニ恒温槽　制御温度帯域(-30℃～200℃)

上記、恒温槽は、側面左右よりプローブを配置する事ができます。配置されたプローブは、Ｘ-Ｙ-Ｚに振る事ができ、側面ウインドウは、外気と遮断できるよ、プローブの移動と、同期し、ウインドウも移動するよう、ユニバーサルウインドウを実現しています。

　多種多様恒温槽を構築致しました経験を貴社へ提供致します。

下記は、恒温冷液水循環水槽を3Ｄプリンターで銅で作成しています。この為、内部循環が、ジャバラ状態で製作されており、熱交換効率が良いため－５０℃を容易に得る事を可能にしている。

　貴社の仕様を適えた恒温槽治具を設計製作致します。お気軽にご相談下さい。

温調帯域は、-45～230℃、コントロール精度は、±1/10℃。

　OWLIFTCap上の温度は、（温度マーカの設定）における放射率により補正された値が表示されています。放射率で補正すると温度が高くなります。

OWLIFT SDKのツールやサンプル(OWLIFTDumpやOWLIFTView)では黒体を仮定した補正していない温度(放射率=1の温度)が得られますが、実用においては放射率を適用することが必要です。そこでOWLIFTCapでは右上の計算を行っています。

　OWLIFTCap上の温度は、（温度マーカの設定）における放射率により補正された値が表示されています。放射率で補正すると温度が高くなります。

OWLIFT SDKのツールやサンプル(OWLIFTDumpやOWLIFTView)では黒体を仮定した補正していない温度(放射率=1の温度)が得られますが、実用においては放射率を適用することが必要です。

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